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1. 노광(露光, UV Exposure)의 개념
미세 회로를 형성 하기 위하여 기판에 Dry Film(Film type Photo resist)을 Laminating하거나
액상 Photo resist를 Coating 한 후, 이 기판 위에 미리 Pattern이 형성된 Photo Mask를
진공으로 밀착시키거나(Contact printing), 가볍게 접합(Soft contact printing)하거나,
일정 간격(Proximity printing)을 띄우거나, Lens를 이용하여(Projection printing) 투영한 mask 영상을 정열한 다음, Photo resist가 광화학 반응(Photo chemical reaction)을 일으킬 수 있는 특정 파장 영역(310 ? 400nm)의 Beam을 일정량(일정한 시간) 노출시켜 감광 작용을 유도하는 과정을 노광이라고 한다.
* Lithography: Substrate 표면 위에 3차원적인 Image를 형성하는 Printing 기술
Lithography = Lithos(=stone) + Graphos(=writing)의 합성어
* Photo-lithography : 감광액을 Coating한 Substrate에 빛을 조사하여 원하는 Image를 형성하는 기술
* Micro-lithography : 미세 Pattern형성을 Photolithography 방법에 의해 달성하는 반도체 제조 기술
Photo Mask를 동판에 밀착시키는 정도와 방법에 따라다음과 같이 나뉜다
1. 접촉식 노광(Contact printing) : 마스크를 진공으로 기판에 완전히 붙인다,
2. 소프트 밀착(Soft contact printing) : 완전 밀착하지 않고, 가볍게 밀착시킨다.
3. 근접 노광 (Proximity printing) : FEL을 사용하여 uniformity를 증가시킨다
4. 프로젝션 노광(Projection printing) : 렌즈를 이용하여 노광시킨다.
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