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수동 평행광 양면 노광기


Manually Collimate Double Side Exposure M/C
 
Specification

APPLICATIONS

Fine Pattern 노광 및 기타

Model No.

ECMSH5K-2

Light Source

Short Arc 5 / 8Kw Mercury 1 Lamp

Power Supply

AC 3Φ / 380 V / 60 ㎐ / 15Kw

Cooling System

공냉식

Valid Exposure Size

700 ~ 780 ↓

Reflector

Ellipsoidal Mirror

Dimension( W x D x H )

2700 x 1330 x 1800


* 본 장비는 Fine Pattern 현상용 노광기로서, Lead Frame, EMI Filter, CSP등의 제조에 널리 사용되고 있는 Model 이다. Standard Panel Size는 550 x 650이며 Mechanical System Contol은 PC Control로 이뤄지며, 제품 처리 조건은 Touch Screen& M/C간의 Conversation 방식으로 제품이 처리되도록 되어 있다
* Half-Collimations Angle이 1 degree 이하로서 Resolution은 10~30㎛를 가지고 양산에 널리 사용되고 있다.
* Light Source는 5KW/8KW Short arc uv lamp 1등을 사용하며, 정밀 설계된 Half Mirror를 사용한 "양면 동시 노광 방식"이 채택되어 있으며, 짧은 Tact Time으로 인해 제품 처리 속도가 5~6 Panel/min로 매우 빠르다.
* Lamp House 및 chamber내의 Control은 개별적인 Feedback System 으로 이뤄지며 최상의 Lamp 조건을 자동 인지하도록 설계되어 있다.
* 漏光 최소화,구동시 저소음, 유지. 관리 및 Troubleshoot가 용이하며, 안전성이 확보된 Model 이다.