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웨이퍼용 평행광 노광기 250W


250W Full collimated Exposure M/C for Wafer
 
Specification

APPLICATIONS

OLED, LCD, Wafer, CNT, Photovoltaic Film

Model No.

ECMSH250W-1

Light Source

One Short Arc 250w Lamp

Exposure Area

150mm X 150mm

Collimation Angle

± 2 ° 이하

Declination Angle

2 ° 이하

UV Intensity

Higher than 25mw/cm2

Uniformity

Higher than 90%

Power Supply

AC 2Φ / 220V / 60Hz

Control

PLC by Touch screen

Utilities

Air 6 bar , Duct for Exhaust 100 Ф

Dimension( W x D x H )

1200 X 800 X 1600


* 본 랩용 노광기 는 OLED, LCD, Wafer, CNT, Photovoltaic Film 연구용으로 사용되는
노광 장비 입니다.
* 평행광 UV Flux 가 높고 , Uniformity 가 좋습니다.
* Collimation UV 이므로 Fine Pattem 을 구현합니다.
* Toutch Panel 을 통해 사용하므로 노광기 사용이 익숙치 않은 연구원이라도 쉽게
숙달합니다.