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UV 세정/개질

산소는 에너지가 높은 184.9nm의 자외선을 흡수하여 반응성이 높은 OH- 라디칼을 생성하거나, 직접 유기물의 분자 결합을 끊는다.

O2 + hv ----> O*
O* + hv + H2O - 2OH- + O2

자외선 에너지의 광분해 반응은 다음과 같다.

M + hv - M* -- Products

UV 세정/개질 메카니즘


이와 같이 UV 세정/개질 메커니즘은 약품을 주입하거나 고전압을 인가하지 않으면서 연속적으로 처리하는 방식이기 때문에 LCD, PDP, OLED등 FPD용 기판의 표면 세정과 표면 개질은 물론, 광학 유리, Ga-As, 리드 프레임, 아크릴, PP, PE등 기능성 프라스틱과 신소재 의 표면 개질과 세정을 위한 장치로서 많이 사용된다.